石坂启 & 林静. (2024). 戴上恶的面具. 北京科学技术出版社.
Cytowanie według stylu Chicago (wyd. 17)石坂启 i 林静. 戴上恶的面具. 北京科学技术出版社, 2024.
Cytowanie według stylu MLA (wyd. 8)石坂启 i 林静. 戴上恶的面具. 北京科学技术出版社, 2024.
Uwaga: Te cytaty mogą odróżniać się od wytycznej twojego fakultetu..