石坂启 & 林静. (2024). 戴上恶的面具. 北京科学技术出版社.
Lua i Stíl Chicago (17ú heag.)石坂启 agus 林静. 戴上恶的面具. 北京科学技术出版社, 2024.
Lua MLA (8ú heag.)石坂启 agus 林静. 戴上恶的面具. 北京科学技术出版社, 2024.
Rabhadh: Seans nach mbeach na luanna seo go hiomlán cruinn i ngach uile chás.
Lua APA (7ú heag.)